首页 > 期刊 > 自然科学与工程技术 > 工程科技I > 材料科学 > 材料研究学报 > 氮流量比对磁控溅射(CoCrFeNi)Nx高熵合金薄膜的组织和性能的影响 【正文】
摘要:采用直流磁控溅射法制备(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜,研究了氮流量比对薄膜的力学性能和电磁性能的影响。结果表明,在不同氮流量比条件下制备的(CoCrFeNi)Nx薄膜,都具有致密的组织、简单的FCC结构并呈现(200)择优取向。随着氮流量比从10%提高到30%,薄膜的硬度和弹性模量随之增大,其最大值达到14 GPa和212 GPa;电阻率基本上呈增大的趋势,最大值达到138μΩ·cm;饱和磁化强度和磁导率随之减小,薄膜饱和磁化强度最高为427.43 emu/cm^3。薄膜的矫顽力约为0。
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