汞离子印迹聚合物的制备及性能研究

摘要：采用水合反应法,将功能单体、模板分子、螯合剂、交联剂等在引发剂作用下进行聚合反应,制成膜包裹在大孔树脂表面,制备出汞离子印迹聚合物(M-SIIP-S4)。采用红外光谱、表面孔径分析、X-衍射对其结构进行表征。将M-SIIP-S4进行平衡吸附实验,考察M-SIIP-S4对Hg^2+的吸附性能,优化了Hg^2+溶液初始质量浓度与吸附时间。结果表明,M-SIIP-S4在Hg^2+初始质量浓度为200mg/L,时间2.5h时,吸附量为57.6mg/g,吸附率达95%,M-SIIP-S4对几种重金属离子的吸附量大小顺序为Hg^2+>Al^3+>Zn^2+>Ca^2+>Cu^2+。