首页 > 期刊 > 自然科学与工程技术 > 信息科技 > 无线电电子学 > 微细加工技术 > 聚合物光波导的反应离子刻蚀工艺研究 【正文】
摘要:实验研究了表面粗糙度、侧壁垂直度与各刻蚀参量之间的关系,通过对刻蚀效果的分析,发现在低功率、高CHF3含量、低压强的情况下能获得最小的表面粗糙度;在高功率、50%CHF3含量、低压强的情况下能获得较陡直的波导侧壁。利用优化的刻蚀条件,对PMMA进行刻蚀,得到了均方根粗糙度小、侧壁陡直的波导。实验发现,该刻蚀条件对其他聚合物光波导材料的刻蚀也具有一定的指导意义。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社