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离子后处理对TiO2光学薄膜及损伤特性的影响

毛思达; 邹永刚; 范杰; 兰云萍; 王海珠; 张家斌; 董家宁; 马晓辉 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室; 吉林长春130022
  • tio2薄膜
  • 电子束蒸发
  • 光学常数
  • 等离子后处理
  • 激光损伤阈值

摘要:为了进一步提高TiO2薄膜的光学特性和激光损伤阈值,采用电子束蒸发技术在K9玻璃上沉积了单层TiO2薄膜,并用Ar/O混合等离子体对样品进行后处理。通过研究薄膜光谱特性、表面缺陷密度、薄膜表面形貌、薄膜损伤阈值以及薄膜损伤形貌,分析了等离子体后处理时间对TiO2薄膜激光损伤特性的影响。实验结果表明,随着等离子体后处理时间的增加,薄膜折射率及致密度提高,物理厚度减少,表面粗糙度下降,表面缺陷密度先减少后增加;在1064nm激光辐射下,TiO2薄膜的激光损伤阈值从未经等离子后处理的5.6J/cm2提升至后处理20min的9.65J/cm2,提升幅度高达72.3%,因此能够更广泛更稳定地应用在激光器中。

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